| 发明名称 |
PROCESSING METHOD FOR SEMICONDUCTOR SUBSTRATE |
| 摘要 |
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| 申请公布号 |
JPH07273120(A) |
申请公布日期 |
1995.10.20 |
| 申请号 |
JP19940082757 |
申请日期 |
1994.03.30 |
| 申请人 |
NIPPON TELEGR & TELEPH CORP <NTT> |
发明人 |
ONO KAZUHIDE;SATO MASAAKI;ARITA MUTSUNOBU |
| 分类号 |
H01L21/302;H01L21/3065;H01L21/3205;H01L21/3213;H01L23/52;(IPC1-7):H01L21/321;H01L21/306;H01L21/320 |
主分类号 |
H01L21/302 |
| 代理机构 |
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代理人 |
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| 主权项 |
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| 地址 |
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