| 发明名称 |
SEMICONDUCTOR SUBSTRATE WASHING TREATMENT APPARATUS |
| 摘要 |
|
| 申请公布号 |
JPH07273080(A) |
申请公布日期 |
1995.10.20 |
| 申请号 |
JP19940061432 |
申请日期 |
1994.03.30 |
| 申请人 |
TOSHIBA CORP |
发明人 |
NAKAJIMA TAKAHITO;FUKAZAWA YUJI |
| 分类号 |
B08B3/10;H01L21/00;H01L21/304;(IPC1-7):H01L21/304 |
主分类号 |
B08B3/10 |
| 代理机构 |
|
代理人 |
|
| 主权项 |
|
| 地址 |
|
