| 发明名称 |
RORATING NUMBER COMPENSATION SYSTEM OF WAFER ROTATING STAGE AT EXPOSURE APPARATUS |
| 摘要 |
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| 申请公布号 |
KR950008951(Y1) |
申请公布日期 |
1995.10.18 |
| 申请号 |
KR19930005150U |
申请日期 |
1993.03.31 |
| 申请人 |
LG SEMICONDUCTOR CO., LTD. |
发明人 |
U, SONG - SHIK |
| 分类号 |
G03F7/20;(IPC1-7):G03F7/20 |
主分类号 |
G03F7/20 |
| 代理机构 |
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代理人 |
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| 主权项 |
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| 地址 |
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