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发明名称 DEVELOPING METHOD OF PHOTORESIST
摘要
申请公布号 JPH07262623(A) 申请公布日期 1995.10.13
申请号 JP19940050675 申请日期 1994.03.22
申请人 SONY CORP 发明人 KUROKAWA KOTARO;KASHIWAGI TOSHIYUKI
分类号 G11B7/26;(IPC1-7):G11B7/26 主分类号 G11B7/26
代理机构 代理人
主权项
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