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发明名称 RADICAL PRODUCER, RADICAL IRRADIATING METHOD, MANUFACTURING METHOD AND DRY-ETCHING METHOD OF SEMICONDUCTOR DEVICE AND ELECTRONIC DEVICE
摘要
申请公布号 JPH07263407(A) 申请公布日期 1995.10.13
申请号 JP19940046720 申请日期 1994.03.17
申请人 HITACHI LTD 发明人 TAKATANI SHINICHIRO;KIKAWA TAKESHI;ONO TETSUO
分类号 H05H1/46;B01J19/08;C23F4/00;H01L21/302;H01L21/304;H01L21/3065;H05H3/02;(IPC1-7):H01L21/306 主分类号 H05H1/46
代理机构 代理人
主权项
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