Method of forming a silicon diffusion and/or overlay coating on the surface of a metallic substrate by chemical vapor deposition.,申请号EP19920401046-传众专利搜索

发明名称	Method of forming a silicon diffusion and/or overlay coating on the surface of a metallic substrate by chemical vapor deposition.
摘要
申请公布号	EP0509907(B1)	申请公布日期	1995.10.11
申请号	EP19920401046	申请日期	1992.04.15
申请人	L'AIR LIQUIDE, SOCIETE ANONYME POUR L'ETUDE ET L'EXPLOITATION DES PROCEDES GEORGES CLAUDE	发明人	ARAI, JUICHI;OZAWA, EIICHI;FRIEDT, JEAN-MARIE
分类号	C23C10/28;C23C10/08;C23C16/02;C23C16/24;(IPC1-7):C23C16/02	主分类号	C23C10/28
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