发明名称 | 微波等离子体处理装置 | ||
摘要 | 一种微波等离子体处理装置包括真空容器,靠微波传输电路把微波导入该容器的装置,向容器内供给原料气体的装置,将容器抽空的装置和样品支架,微波传输电路中设置有与两个匹配电路成一体的空腔谐振器,谐振器外侧设有磁场产生器。该装置的主要特点是:用调节谐振器长度的塞子和圆筒形滑动隔膜、E-H或三短截线式调谐器使匹配容易进行;谐振器内设一钟罩以激励TM模式、在谐振器外安装磁场产生器以提供高磁通密度区域。 | ||
申请公布号 | CN1029992C | 申请公布日期 | 1995.10.11 |
申请号 | CN89103425.0 | 申请日期 | 1989.05.25 |
申请人 | 佳能株式会社 | 发明人 | 川上総一郎;金井正博;新井孝至;村上勉 |
分类号 | C23C16/48 | 主分类号 | C23C16/48 |
代理机构 | 中国国际贸易促进委员会专利商标事务所 | 代理人 | 王以平 |
主权项 | 1.一种用于在一基底上形成淀积膜的微波等离子体CVD装置,包括;一个基本密封的真空容器,该真空容器具有膜形成器和由部分微波传输电路构成的空腔谐振器,所述膜形成器具有一基底支架以及向其内导入成膜原料气体的装置;一个其内产生等离子体的微波传输钟罩,它与所述空腔谐振器互连、并与所述膜形成器相连,具有把产生原料气体的等离子体导入其中的装置;将所述真空容器抽成真空的抽真空装置,以及通过所述微波传输电路把微波导入所述空腔谐振器以在所述微波传输钟罩内产生等离子体的微波导入装置,其特征在于:所述空腔谐振器与两个匹配电路成为一体,其中之一包括改变所述空腔谐振器长度的柱塞,而另一个包括一对滑动式隔膜,且将一在所述微波传输钟罩内产生磁场的磁场发生器设置在所述空腔谐振器的外面。 | ||
地址 | 日本东京都 |