| 发明名称 |
Susceptor for vapor deposition |
| 摘要 |
A novel susceptor used in a chemical vapor deposition device that is made of a ceramic material, specifically, an aluminum nitride material.
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| 申请公布号 |
US5456757(A) |
申请公布日期 |
1995.10.10 |
| 申请号 |
US19930146370 |
申请日期 |
1993.10.29 |
| 申请人 |
APPLIED MATERIALS, INC. |
发明人 |
ARUGA, MICHIO;OHKUBA, ATSUNOBU;SAITO, AKIHIKO;ANAN, KATSUMASA |
| 分类号 |
C23C16/44;C23C16/458;C23C16/50;H01L21/205;(IPC1-7):C23C16/50;H01L21/00;H05H1/00 |
主分类号 |
C23C16/44 |
| 代理机构 |
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代理人 |
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| 主权项 |
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| 地址 |
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