CVD-Anlage und Verfahren zur Reduzierung der Teilchen-Verseuchung in einem CVD-Verfahren.,申请号DE19916012506-传众专利搜索

发明名称	CVD-Anlage und Verfahren zur Reduzierung der Teilchen-Verseuchung in einem CVD-Verfahren.
摘要
申请公布号	DE69112506(D1)	申请公布日期	1995.10.05
申请号	DE19916012506	申请日期	1991.06.28
申请人	APPLIED MATERIALS, INC., SANTA CLARA, CALIF., US	发明人	RINNOVATORE, JAMES V., NAZARETH, PA 18064, US
分类号	H01L21/205;C23C16/44;C30B25/14;H01L21/285;H01L21/31;(IPC1-7):C30B25/14;C23C16/54	主分类号	H01L21/205
代理机构		代理人
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