发明名称 |
Method for preventing silicon dioxide contamination of lithographic printing masters |
摘要 |
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申请公布号 |
US3139825(A) |
申请公布日期 |
1964.07.07 |
申请号 |
US19620185220 |
申请日期 |
1962.04.05 |
申请人 |
EASTMAN KODAK COMPANY |
发明人 |
CONNOLLY LEWIS T.;SWIFT PAUL F. |
分类号 |
B41N3/08;C07D307/42;G03F7/06 |
主分类号 |
B41N3/08 |
代理机构 |
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代理人 |
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主权项 |
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地址 |
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