| 发明名称 | 在多层图形间测量重叠误差的重叠测量标记和方法 | ||
| 摘要 | 公开了一种在半导体器件的多层图形间测量重叠误差的重叠测量标记和方法。第一掩模用其在划线的Y轴上形成由二相互平行隔置的标记组成的第一重叠标记。第二掩模用其在划线的X轴上形成由二相互平行隔置的标记组成的第二重叠标记使其不重叠于第一重叠标记。第三掩模在划线部位上自第一和第二重叠标记内侧形成第三重叠标记。测量在第一和第三重叠标记间的距离，以及在第二和第三重叠标记间的距离。 | ||
| 申请公布号 | CN1109215A | 申请公布日期 | 1995.09.27 |
| 申请号 | CN94120777.3 | 申请日期 | 1994.12.27 |
| 申请人 | 现代电子产业株式会社 | 发明人 | 裵相万 |
| 分类号 | H01L21/66 | 主分类号 | H01L21/66 |
| 代理机构 | 中国专利代理(香港)有限公司 | 代理人 | 萧掬昌;王忠忠 |
| 主权项 | 1、一种重叠测量标记，包括：在划线部位的Y轴上形成的第一重叠标记，所说第一重叠标记由二相互平行隔置的标记组成；在所说划线部位的X轴上形成的第二重叠标记，所说第二重叠标记由二相互平行隔置的标记组成；在所说划线部位形成的第三重叠标记，所说第三重叠标记自所说第一和第二重叠标记内侧形成。 | ||
| 地址 | 韩国京畿道 | ||