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发明名称 METHOD FOR FORMING SILICON SUBSTRATE AND POROUS SILICON AND SEMICONDUCTOR SUBSTRATE
摘要
申请公布号 JPH07249583(A) 申请公布日期 1995.09.26
申请号 JP19940039388 申请日期 1994.03.10
申请人 CANON INC 发明人 GENJI YUTAKA
分类号 C25D11/34;C25F3/12;H01L21/02;H01L21/205;H01L21/3063;(IPC1-7):H01L21/205 主分类号 C25D11/34
代理机构 代理人
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