| 发明名称 |
IRON CONCENTRATION MEASUREMENT METHOD OF SILICON WAFER |
| 摘要 |
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| 申请公布号 |
JPH07249666(A) |
申请公布日期 |
1995.09.26 |
| 申请号 |
JP19940068091 |
申请日期 |
1994.03.11 |
| 申请人 |
KOMATSU ELECTRON METALS CO LTD |
发明人 |
KATO HIROTAKA;MATSUMOTO KEI;KONO MITSUO |
| 分类号 |
C30B29/06;C30B33/00;H01L21/66;(IPC1-7):H01L21/66 |
主分类号 |
C30B29/06 |
| 代理机构 |
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代理人 |
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| 主权项 |
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| 地址 |
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