| 发明名称 |
Réacteur à plasma pour un procédé de dépôt ou de gravure. |
| 摘要 |
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| 申请公布号 |
FR2709397(B1) |
申请公布日期 |
1995.09.22 |
| 申请号 |
FR19930010301 |
申请日期 |
1993.08.27 |
| 申请人 |
ALCATEL CIT |
发明人 |
PEARSON DAVID (C/O ALCATEL CIT) |
| 分类号 |
C23F4/00;H01J37/32;H01L21/205;H01L21/302;H05H1/46;(IPC1-7):H05H1/46;C23C16/50 |
主分类号 |
C23F4/00 |
| 代理机构 |
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代理人 |
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| 主权项 |
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| 地址 |
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