Positiv-arbeitende Photolackzusammensetzung.,申请号DE19906019706T-传众专利搜索

发明名称	Positiv-arbeitende Photolackzusammensetzung.
摘要
申请公布号	DE69019706(T2)	申请公布日期	1995.09.21
申请号	DE19906019706T	申请日期	1990.11.09
申请人	NIPPON ZEON CO., LTD., TOKIO/TOKYO, JP	发明人	YAMADA, TAKAMASA, KOMAKI-SHI, AICHI-KEN, JP;KAWATA, SHOJI, KAWASAKI-SHI, KANAGAWA-KEN, JP;OIE, MASAYUKI, KAMAKURA-SHI, KANAGAWA-KEN, JP
分类号	G03F7/023;G03F7/022;H01L21/027;(IPC1-7):G03F7/022;C07C39/15;C07C39/17;C07C39/367	主分类号	G03F7/023
代理机构		代理人
主权项
地址