| 发明名称 | 光刻胶剥离液管理装置 | ||
| 摘要 | 一种用于液晶基板和半导体制造工艺的光刻胶剥离管理装置。此装置可恒定地控制光刻胶剥离液质量，且可削减液体用量、减少停机时间和降低成本，其包括用吸光光度计16检测剥离液中溶解的光刻胶浓度并排出剥离液的光刻胶剥离液置放装置，用液面高度仪3检测剥离液的液面高度并补给有机溶剂和MEA等烷醇基胺的第一补给装置以及用吸光光度计15检测剥离的MEA等烷醇基胺浓度并补给有机溶剂和烷醇基胺二者中至少一种的第二补给装置。 | ||
| 申请公布号 | CN1108767A | 申请公布日期 | 1995.09.20 |
| 申请号 | CN94119237.7 | 申请日期 | 1994.12.23 |
| 申请人 | 株式会社平间理化研究所;长濑产业株式会社 | 发明人 | 中川俊元;田光三;小川修;佐藤嘉高;盐津信一郎 |
| 分类号 | G03F7/00;G03C1/00 | 主分类号 | G03F7/00 |
| 代理机构 | 中国国际贸易促进委员会专利商标事务所 | 代理人 | 王以平 |
| 主权项 | 1、一种光刻胶剥离液管理装置，其特征在于包括：用吸光光度计(16)检测光刻剥离液的溶解光刻胶浓度再排出光刻胶剥离液的光刻胶剥离液排放装置；用液面高度仪(3)检测光刻胶剥离液的液面高度并补给有机溶剂和烷醇(基)胺的第一补给装置；以及用吸光光度计(15)检测光刻胶剥离液的烷醇(基)胺的浓度并补给有机溶机和烷醇(基)胺两者中至少一种的第二补给装置。 | ||
| 地址 | 日本神奈川县 | ||