| 发明名称 |
DC-MAGNETRON REACTIVE SPUTTERING METHOD |
| 摘要 |
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| 申请公布号 |
JPH07243039(A) |
申请公布日期 |
1995.09.19 |
| 申请号 |
JP19940032190 |
申请日期 |
1994.03.02 |
| 申请人 |
CHUGAI RO CO LTD |
发明人 |
KISODA KINYA;TOUCHI HACHIRO;KAMIIDE MASAO;FURUYA EIJI |
| 分类号 |
C23C14/35;(IPC1-7):C23C14/35 |
主分类号 |
C23C14/35 |
| 代理机构 |
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代理人 |
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| 主权项 |
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| 地址 |
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