X-RAY PROCESS AND DEVICE FOR ANALYSING SUBSTANCES AND STRUCTURES

摘要

Die Erfindung beschreibt ein Verfahren und Vorrichtungen zur Röntgen-, Stoff- und Strukturanalyse, wobei die von einer Strahlungsquelle ausgesandte Primärstrahlung ein Messobjekt zur Aussendung von Sekundärstrahlung anregt und diese Sekundärstrahlung von einem Empfänger erfasst und nachfolgend ausgewertet wird. Das Wesen der Erfindung besteht darin, dass durch den Verlauf der Primär- bzw. Sekundärstrahlung durch mindestens Optikelemente, welche aus einer Vielzahl sehr dünner, hohler Kapillaren, beispielsweise aus Glas, bestehen und in welchen die Strahlung parallelisiert und/oder fokussiert und/oder monochromatisiert wird, sowohl eine räumlich entfernte Anordnung der Strahlungsquelle bzw. des Empfängers vom Messobjekt als auch die Verwendung von Strahlungsquellen mit geringer Strahlungsintensität ermöglicht wird. Spezielle Anwendungen der Erfindung sind die Schichtdickenmessung, die Kopplung der Röntgenfluoreszenzspektroskopie mit der Mikroskopie, die Realisierung einer Zeilenoptik sowie die Realisierung eines einfachen, aber leistungsfähigen Tomographen. Eine erfindungsgemässe Vorrichtung zur kontinuierlichen zerstörungsfreien Messung der Schichtdicke während des Schichtherstellungsprozesses ist in der Figur dargestellt.