发明名称 Verfahren uund Vorrichtung zur Herstellung von dünnen Schichten aus supraleitendem Oxyd.
摘要
申请公布号 DE69106742(T2) 申请公布日期 1995.09.07
申请号 DE1991606742T 申请日期 1991.03.01
申请人 SUMITOMO ELECTRIC INDUSTRIES, LTD., OSAKA, JP;THE TOKYO ELECTRIC POWER CO., INC., TOKIO/TOKYO, JP 发明人 YOSHIDA, NORIYUKI, C/O OSAKA WORKS OF SUMITOMO, KONOHANA-KU, OSAKA, JP;TAKANO, SATOSHI, C/O OSAKA WORKS OF SUMITOM, KONOHANA-KU, OSAKA, JP;OKUDA, SHIGERU, C/O OSAKA WORKS OF SUMITOM, KONOHANA-KU, OSAKA, JP;HAYASHI, NORIKI, C/O OSAKA WORKS OF SUMITOMO, KONOHANA-KU, OSAKA, JP;HARA, TSUKUSHI, C/O THE TOKYO ELECTRIC POWER, CHOFU-SHI, TOKYO, JP;OKANIWA, KIYOSHI, C/O THE TOKYO ELECTRIC POWER, CHOFU-SHI, TOKYO, JP;YAMAMOTO, TAKAHIKO, C/O THE TOKYO ELECTRIC POWER, CHOFU-SHI, TOKYO, JP
分类号 C01B13/14;C01G1/00;C01G3/00;C23C14/00;C23C14/08;C23C14/28;C23C14/34;C30B23/08;C30B29/22;H01B12/06;H01B13/00;H01L39/24;(IPC1-7):H01L39/24 主分类号 C01B13/14
代理机构 代理人
主权项
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