发明名称 二氢化茚衍生物和其制法及合成该衍生物的中间体
摘要 本发明公开了式(I)表示的二氢化茚化合物或其药物上可接受的盐,其制备方法,以及合成该类二氢化茚化合物的中间体,式(I)化合物如上式其中,R<SUP>1</SUP>为芳基,低级烷基,C<SUB>3-6</SUB>环烷基,卤代低级烷基,低级链烯基,具有N、O或S作杂原子的单环或双环芳香杂环基,低级烷氧基、苯氧基,低级烷氨基,低级链烯基氨基,苯氨基或低级链烯氧基;R<SUP>2</SUP>为H或低级烷基;X为羰基或硫代羰基;Alk为单键或亚烷基;虚线表示存在或不存在双键。
申请公布号 CN1107843A 申请公布日期 1995.09.06
申请号 CN94113329.X 申请日期 1994.12.28
申请人 田边制药株式会社 发明人 石田昭彦;本间光一;谷藤道久;西山信右;奥村文和
分类号 C07D237/14;A61K31/50 主分类号 C07D237/14
代理机构 北京市中原信达知识产权代理公司 代理人 张天舒
主权项 1、一种式(Ⅰ)表示的二氢化茚化合物或其药物上可接受的盐<img file="94113329X_IMG2.GIF" wi="1319" he="450" />其中R<sup>1</sup>表示取代或未取代的芳基,低级烷基、环烷基、卤代低级烷基、低级链烯基,苯基取代的低级链烯基,取代或未取代的具有氮原子、氧原子或硫原子作为杂原子的单环或双环芳香杂环基,用取代或未取代的具有氮原子、氧原子或硫原子作为杂原子的单环或双环芳香杂环基取代的低级烷基,取代或未取代的低级烷氧基,苯氧基,低级烷氨基,低级链烯基氨基,苯氨基或低级链烯氧基;R<sup>2</sup>表示氢原子或低级烷基;X代表羰基或硫代羰基;Alk代表单键原子或低级亚烷基;虚线代表存在或不存在双键。
地址 日本大阪府