Method of forming a field oxide film in a semiconductor device,申请号GB19950013225-传众专利搜索

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发明名称	Method of forming a field oxide film in a semiconductor device
摘要
申请公布号	GB9513225(D0)	申请公布日期	1995.09.06
申请号	GB19950013225	申请日期	1995.06.29
申请人	HYUNDAI ELECTRONICS INDUSTRIES CO. LTD.	发明人
分类号	H01L21/32	主分类号	H01L21/32
代理机构		代理人
主权项
地址

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