| 发明名称 |
METHOD AND DEVICE FOR PLASMA PROCESSING |
| 摘要 |
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| 申请公布号 |
JPH07235396(A) |
申请公布日期 |
1995.09.05 |
| 申请号 |
JP19920034731 |
申请日期 |
1992.02.21 |
| 申请人 |
HITACHI LTD |
发明人 |
SAITO YUTAKA;SUZUKI YASUMICHI;SANO HIDEZO;SHIMIZU TAMOTSU;AIUCHI SUSUMU |
| 分类号 |
H05H1/46;C23C14/35;C23C16/50;C23C16/511;C23F4/00;H01L21/205;H01L21/302;H01L21/3065;H01L21/31;(IPC1-7):H05H1/46;H01L21/306 |
主分类号 |
H05H1/46 |
| 代理机构 |
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代理人 |
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| 主权项 |
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| 地址 |
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