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COMPUESTOS QUE TIENEN LA FORMULA (MX3)NM''X4-N, EN LA QUE M Y M'' SON ATOMOS DIFERENTES DEL GRUPO 4A, POR LO MENOS UNO DE M Y M'' ES SILICIO, X ES HIDROGENO, HALOGENO O MEZCLAS DE ESTOS, Y N ES UN ENTERO ENTRE 1 Y 4 INCLUSIVE, SON UTILES COMO MATERIALES PARA ALIMENTACION DE DEPOSICION EN LA FORMACION DE ALEACIONES DE SILICIO AMORFO HIDROGENADO, EMPLEADAS EN LA FABRICACION DE DISPOSITIVOS FOTOVOLTAICOS Y OTROS ELECTRONICAMENTE ACTIVOS. DOPANTES QUE TIENEN LA FORMULA (SIX3)MLX3-M, EN LA QUE L ES UN ATOMO DEL GRUPO 5A, ELEGIDO DEL GRUPO DE FOSFORO, ARSENICO, ANTIMONIO Y BISMUTO, X ES HIDROGENO, HALOGENO O MEZCLAS DE ESTOS Y M ES UN ENTERO ENTRE 1 Y 3 INCLUSIVE, SON UTILES PARA LA FABRICACION DE ALEACIONES DE SILICIO AMORFO HIDROGENADO, DOPADO NEGATIVAMENTE, EMPLEADAS EN LA FABRICACION DE DISPOSITIVOS FOTOVOLTAICOS Y OTROS ELECTRONICAMENTE ACTIVOS. DOPANTES QUE TIENEN LA FORMULA YJX2, EN LA QUE Y ES HALOGENO O CARBONILO, J ES UN ATOMO DEL GRUPO 3A, Y X ES HIDROGENO, HALOGENO O MEZCLAS DE ESTOS, SON UTILES PARA LA FORMACION DE ALEACIONES DE SILICIO AMORFO HIDROGENADO, DOPADO POSITIVAMENTE, EMPLEADAS EN LA FABRICACION DE DISPOSITIVOS FOTOVOLTAICOS Y OTROS ELECTRONICAMENTE ACTIVOS.
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