摘要 |
LA INVENCION SE REFIERE A NUEVOS DERIVADOS DE ACIDO BARBITURICO DE LA FORMULA GENERAL DONDE R ES UN GRUPO FENILO SUSTITUIDO O NO SUSTITUIDO O UN GRUPO HETEROARILO TENIENDO 5 O 6 ATOMOS DE ANILLO, COMPRENDIENDO EL GRUPO HETEROARILO UNO O MAS ATOMO HETERO SELECCIONADOS DESDE EL GRUPO QUE CONSISTE EN N, O Y S, Y SIENDO LOS SUSTITUYENTES SELECCIONADOS DEL GRUPO QUE CONSISTE EN HALOGENO, CIANO, NITRO, FORMIL, ACETIL, ALQUILO C SUB 1-C SUB 4, HALOALQUILO C SUB 1-C SUB 4, ALCOXI C SUB 1-C SUB 4, HALOALCOXI C SUB 1-C SUB 4 Y FENOXI OPCIONALMENTE SUSTITUIDO; R SUB 1 ES UN GRUPO ALQUILO C SUB 3-C SUB 5, GRUPO ALQUENILO, GRUPO ALQUINILO C SUB 3-C SUB 5, GRUPO CICLOPROPILO O UN GRUPO ALQUILO (C SUB 1C SUB 4) CICLOPROPILO, Y R SUB 2 ES UN GRUPO ALQUILO C SUB 1-C SUB 4 O GRUPO AMINO; TAMBIEN COMO SALES Y COMPLEJOS METALICOS DE DICHOS COMPUESTOS. ESTOS COMPUESTOS PUEDEN SER UTILIZADOS EN COMPOSICIONES PARA EL CONTROL DE INSECTOS, EN PARTICULAS AFIDOS, EN AGRICULTURA, HORTICULTURA Y SILVICULTURA.
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