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发明名称 Method of fabricating semicondutor thin film and method of fabricating hall-effect device.
摘要
申请公布号 EP0632485(A3) 申请公布日期 1995.08.23
申请号 EP19940108235 申请日期 1994.05.27
申请人 MATSUSHITA ELECTRIC INDUSTRIAL CO., LTD. 发明人 KAWASAKI, TETUO;KORETIKA, TETUHIRO;KITABATAKE, MAKOTO;HIRAO, TAKASHI
分类号 H01L21/20;H01L43/06;H01L43/08;(IPC1-7):H01L21/20 主分类号 H01L21/20
代理机构 代理人
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