| 发明名称 |
REACTOR FOR CHEMICAL VAPOR DEPOSITION OF SEMICONDUCTOR GRADE SILICON |
| 摘要 |
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| 申请公布号 |
JPH07226384(A) |
申请公布日期 |
1995.08.22 |
| 申请号 |
JP19950013237 |
申请日期 |
1995.01.31 |
| 申请人 |
HEMUROTSUKU SEMICONDUCTOR CORP |
发明人 |
ROORENSU JIYON DOIRU;SUCHIIBUN JIYOSEFU ZUNITSUKU |
| 分类号 |
C01B33/035;C23C16/44;C30B25/02;C30B25/08;H01J37/32;H01L21/205;(IPC1-7):H01L21/205 |
主分类号 |
C01B33/035 |
| 代理机构 |
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代理人 |
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| 主权项 |
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| 地址 |
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