发明名称 电镀法
摘要 【目的】:提供一种使导电或金属电于表面露出金属及非导电体之材料上之高度可靠或且低成本之电镀法。【构成】:使含有平均粒径最大 2μm之石墨粒子及/或平均粒径最大1μm之碳黑粒子之水分散液与表面露出金属及非导电体之材料接触后,氧化该金属之表面,继之将金属表面上之上述粒子藉该金属层0.01~5μm之蚀刻处理予以除去,然后以所得者为基底层予以电镀。
申请公布号 TW254973 申请公布日期 1995.08.21
申请号 TW083108434 申请日期 1994.09.13
申请人 美克股份有限公司 发明人 王谷稔
分类号 C25D5/34 主分类号 C25D5/34
代理机构 代理人 赖经臣 台北巿南京东路三段三四六号白宫企业大楼一一一二室
主权项 1. 一种电镀法,系在表面露出导电性及非导电体之材料电镀之方法,其特征为,(a) 使含有平均料径最大2m之石墨料子及/或平均粒径最大1m之碳黑粒子之水分散液与表面露出具有导电性之金属及非导电体之材料接触,而使该项粒子附着后,(b) 氧化该导电性之金属之表面,(c) 在该材料表面上附着之石墨粒子及碳黑粒子中,金属表面上之粒子藉该金属0.01-5m之蚀刻处理予以除去,(d) 继之,以金属及非导电体表面之该粒子之层为导电层予以电镀者。(e) 一种电镀法,系在表面露出导电性及非导电体之材料电镀之方法,其特征为,(a) 使含有平均料径最大2m之石墨料子及/或平均粒径最大1m之碳黑粒子之水分散液与表面露出具有导电性之金属及非导电体之材料接触,而使该项粒子附着后,(a-2) 将该材料浸渍于pH3以下之强酸性水溶液中,以使材料表面之上述粒子凝集,(b) 继之,氧化该导电性之金属之表面,(c) 在该材料表面上附着之石墨粒子及碳黑粒子中,金属表面上之粒子藉该金属0.01-5m之蚀刻处理予以除去,(d) 继之,以金属及非导电体表面之该粒子之层为导电层予以电镀者。3. 如申请专利范围第1项或第2项之方法,其中该项在表面露出具有导电性之金属及非导电体之材料为,由金属层
地址 日本