发明名称 高解析度相位法干涉仪
摘要 一种改良的相位法干涉仪,包含一光学模组,其中该光源所发出之光束,经过第一分光镜后分成一参考光束及一测量光束,该参考光束射向该参考反射镜反射后,折回该第一分光镜;该测量光束则射向该测量反射镜,经反射后,亦折回该第一分光镜,并与该参考光束形成干涉之后,形成一干涉光束,射入下述讯号分解模组;一讯号分解模组,含有第二分光镜,可将该干涉光束分为二道光束,分别射向该二侦测器,以侦出二电压信号,送往下述处理模组;及一处理模组,含有一信号处理器,用以计算该测量反射镜之位移量;其中该光学模组含有一光学调整手段,用以调整该光束之强度及偏极方向及该参考光束之相位角;利用光学调整手段及处理模组之配合,可以提高相位法干涉仪之解析度。
申请公布号 TW253939 申请公布日期 1995.08.11
申请号 TW083108361 申请日期 1994.09.07
申请人 财团法人工业技术研究院 发明人 彭国胜;刘惠中
分类号 G01B9/02 主分类号 G01B9/02
代理机构 代理人
主权项 1.一种相位法干涉仪,包含:一光学模组,包含一光源,一第一分光镜,一参考反射镜,及一测量反射镜;其中该光源所发出之光束,经过该第一分光镜后分成一参考光束及一测量光束,该参考光束射向该参考反射镜,经二次反射后,折回该第一分光镜;该测量光束则射向该测量反射镜,经二次反射后,亦折回该第一分光镜,并与该参考光束形成干涉之后,形成一干涉光束,射入下述讯号分解模组;一讯号分解模组,含有一第二分光镜及至少二光侦测器;该第二分光镜可将该干涉光束分为至少二道光束,分别射向该至少二侦测器,以侦出至少二电压信号,送往下述处理模组;及一处理模组,含有:一信号处理器,用以计算该测量反射镜之位移量;及一记录手段,用以记录该至少二侦测器测得电压値,而在一直角平面座标上形成下式所示之轨迹:X=h+a cos,Y=k+b cos(-),式中 X,Y为量测讯号之电压値,h,k为讯号直流部分,a,b为讯号交流部分,为干涉讯号相位角,为两组讯号之相位差;其中该光学模组含有一光学调整手段,用以调整该光束之强度及偏极方向及该参考光束之相位角,且该调整手段调整该椭圆轨迹至近圆形后,依据下式,求得椭圆参数h、k、a/b、等,并供该处理器计算该测量反射镜之位移量:h=(2Z@ss1Z@ss2+Z@ss3Z@ss4)/(4Z@ss2-Z@ss4@su2),k=(2Z@ss3+Z@ss1Z@ss4)/(4Z@ss2-Z@ss4@su2),a/b=(Z@ss2)@su1/2,及COS=Z@ss4/(2Z@ss2@su1/2);其中Zi为矩阵方程式;[A][Z]=[B]之解,而:A(i,1)=X(1)-X(1+i),A(i,2)=-{Y@su2(1)-Y@su2(1+i)},A(i,3)=Y(1)-Y(1+i),A(i,4)=X(1)Y(1)-X(1+i)Y(1+i),且B(i)=X@su2(1)-X@su2(1+i)。2.如申请专利范围第1项之相位法干涉仪,其中更包括一位于该光源及该第一分光镜间之一偏极镜片组及一位于该第一分光镜与该参考反射镜间之一云母片。图示简单说明:在图式中,第一图表示本发明高解析度相位法干涉仪之系统图。第二图表示本发明高解析度相位法干涉仪测得之压电驱动
地址 新竹县竹东镇中兴路四段一九五号