| 主权项 |
1.一种由物体之多个横截面部分制造三维物体的 方法,此 横截面部分相当于藉顺序逐像曝光各层所制得之 光可形成 组成物之邻近层的固化部分,每一层依照预定图形 (其代 表三维物体所需之横截面)而曝光,该方法包括: 使用超调制曝光源,按照供一层用之预定图形, 以逐像 曝光至少一层,而在一层上产生具分开的,固定的, 硬化 的成像区(其藉部分硬化光可形成组成物之成像区 而分离) 的非连续图形成像;且 使用调制曝光源,按照供一层用之预定图形,重 覆逐像 曝光该层以在该层上产生连续之图形硬化成像。2 .如申请专利范围第1项之方法,其中曝光源包括一 经扫 描的,经次调制雷射线碰撞在一层上,且曝光源之 调制和 超调制是藉着在预定时间间隔中由"开"状态至"关" 动 态,选择性地变化碰撞在该一层上之射线强度而达 成。3.如申请专利范围第1项之方法,其中曝光源包 括碰撞在 一层上且衍着一方向扫描之经扫描,经次调制之雷 射线, 该射线具一扫描速度,且其中曝光源之超调制是藉 着以一 预定速率,衍着扫描方向,变化在层上射线之扫描 速度。4.如申请利范围第1或第2项之方法,其包括 步骤(1)和(2) 被重覆了经选择的次数,以照着相当预定图形,曝 光多个 层。5.如申请专利范围第1或第2项之方法,其包括 步骤(1)和( 2)被重覆了经选择的次数,以照着相当之预定图形, 曝光 多个邻近层。6.如申请专利范围第2项之方法,其中 分开的硬化成像区 为点形状。7.如申请专利范围第2项之方法,其中分 开的硬化成像区 为长划符号状。8.如申请专利范围第1或第2项之方 法,其中该一层之第一 超调制曝光产生横补偿(laterally offset)硬化区于该 一 层上。9.如申请专利范围第1项之方法,其中光可形 成组成物是 一光聚合物。10.如申请专利范围第9项之方法,其 中光聚合物是一液体 。11.如申请专利范围第1项之方法,其中步骤(1)和(2 )间有 时间延迟。12.如申请专利范围第11项之方法,其中 光可形成组成物 在曝光后会持续收缩,且其中步骤(1)和(2)间之该时 间延 迟足以使经曝光组成物之收缩实质上完成。图示 简单说明: 图1是一图示性的概图,显示用来实行本发明之装 置。 图2是一图表,显示应用在蝠射线调制器中以次调 制曝光 射线之讯号,及在恒定 扫描速度下,藉该次调制射线来曝光光可形成组成 物所得 之硬化结果。 图3是一图表,显示在标的平面上之射线强度图。 图4是一图表,显示应用在蝠射线调制器中以逐像 调制曝 光射线之控制讯号。 图5是一图表,显示一控制讯号,其应用在蝠射线调 制器 中以超调制用在依本发明之光可形成组成物之第 一次逐像 曝光中之曝光射线。 图6是一使用图5之控制讯号所得光可形成层之第 一次逐像 曝光结果的正视截面图示性代表。 图7是一使用图4之控制讯号所得光可形成层之第 二次逐像 曝光结果的正视截面图示性代表。 图8是在一层上之经曝光成像区的顶视图示性代表 ,显示 依本发明之第一次逐像曝光后所形成之小岛状物 。 图9是与图8所示相同区域之图示性代表,显示依本 发明之 第二次逐像曝光后所形成者。 图10是一顶视图示性代表,显示依本发明之一可选 择的实 |
