发明名称 复螺旋挤压机用游星齿轮机构
摘要 本发明提供一种复螺旋挤压机用游星齿轮机构,具有一内面设有内齿轮1的圆筒状固定外壳6,外壳6内部复设有形成在中心轴8的至少一端的太阳齿轮2及形成在螺旋9的一端的多个主游星齿轮3,其中主游星齿轮3经配置成一圈,且彼此之间及彼等与太阳齿轮2及外壳内齿轮1之间各保持间隔,一方面,在太阳齿轮2与主游星齿轮3之间,另一方面,在主游星齿轮3与外壳内齿轮之间分别配置有与其相啮合的多个内侧及外侧中间齿轮4、5。
申请公布号 TW253864 申请公布日期 1995.08.11
申请号 TW083103356 申请日期 1994.04.15
申请人 EMS–殷文泰公司 发明人 韦纳.凯吉;杰哈.施密德;乔辛.恩辛格
分类号 B29B7/14;F16H1/28 主分类号 B29B7/14
代理机构 代理人 张毓秀 台北巿长安东路二段五十二号八楼
主权项 1.一种具有一内部设有内齿轮(1)之圆形固定机壳(6 )之复 螺旋挤压机用游星齿轮机构,该机构具有由中心主 轴(8) 之至少一端之齿部所形成之太阳齿轮(2),及由各个 螺旋( 9)之至少一自由端饮齿部所形成之多个主游星齿 轮(3); 而其中主游星齿轮系配置成为彼此间及与太阳齿 轮(2)之 间,以及与机壳内齿轮(1)之间皆相间隔之一圈,且 一方 面,太阳齿轮(2)与主游星齿轮(3)之间,另一方面,主 游 星齿轮(3)与机壳内齿轮(1)之间,配置有分别啮合于 各该 齿轮之内侧及外侧中间游星齿轮(4.5)者。2.依申请 专利范围第1项之游星齿轮机构,其中主游星齿 轮(3)之数量系与内侧及外侧中间游星齿轮(4.5)之 数量 相等。3.依申请专利范围第1项或第2项之游星齿轮 机构,其中太 阳齿轮(2)系被驱动者。4.依申请专利范围第1项或 第2项之游星齿轮机构,其中各 齿轮(2.3.4.5)及机壳内齿轮(1)系设计成可正向及反 向互相啮合者。5.依申请专利范围第1项或第2项之 游星齿轮机构,其中各 齿轮(2.3.4.5)及机壳内齿轮(1)系螺旋形齿轮者。6. 依申请专利范围第1项或第2项之游星齿轮机构,其 中各 齿轮(2.3.4.5)及机壳内齿轮(1)系人字形齿轮者。7. 依申请专利范围第1项或第2项之游星齿轮机构,其 中太 阳齿轮(2)之横截面中心及各相对之成对内、外侧 中间游 星齿轮(4.5)之横截面中心系配置在一直线上,而主 游星 齿轮(3)之横截面中心则配置在相邻二直线所构成 扇形角 度线上。8.依申请专利范围第1项或第2项之游星齿 轮机构,其中各 齿轮(2.3.4.5),机壳内齿辁(1)及所有旋转构件之端 面系由产品加以润滑者。9.一种用于连续处理高 粘度媒体,特别是用于处理热可塑 性聚合物熔融体或生产热可塑性聚合体之复螺旋 挤压机, 具有一熔融体入口段(10),至少一相邻接之圆筒形 处理室 (12)及一相邻接之出口段(13);处理室内在横截面配 置有 围成一圈之数个螺旋(9)及在横截面中心配置有一 中心主 轴(8),而在出口段至少设有一前述游星齿轮机构, 。用 以驱动螺旋(9)及中心主轴(8)。10.依申请专利范围 第9项之复螺旋挤压机,其中游星齿轮 机构系设置于处理室(12)之头及/或尾端部位。11. 依申请专利范围第9项或第10项之复螺旋挤压机,其 中 处理室(12)内之中心主轴(8)具有光滑之表面者。12. 依申请专利范围第9项或第10项之复螺旋挤压机,其 中 处理室(12)内之中心主轴(8)系设计为螺旋轴者。13. 依申请专利范围第9项或第10项之复螺旋挤压机,其 中 螺旋(9)及中心主轴(8)系配置成轴向平行者。14.依 申请专利范围第9项或第10项之复螺旋挤压机,其中 相邻之各螺旋(9)系设计成能彼此互相啮合者。15. 依申请专利范围第9项或第10项之复螺旋挤压机,其 中 螺旋(9)之外周面与机壳内壁面之间,及与中心主轴 (8)表 面之间之间隙应尽可能设计为最小者。16.依申请 专利范围第9项或第10项之复螺旋挤压机,其中 中心主轴(8)是被驱动者。17.依申请专利范围第9项 或第10项之复螺旋挤压机,其中 在处理室(12)上配置有一除气罩(7)者。18.依申请专 利范围第17项之复螺旋挤压机,其中除气罩(7 )乃附设有真空装置者19.一种使用申请专利范围第 9项之复螺旋挤压机以连续处 理高粘度媒体,特别是用以处理热可塑性聚合物熔 融体或 用以生产热可塑性聚合物熔融体之方法。20.依申 请专利范围第19项之方法,其中在复螺旋挤压机 之处理室内之高粘度媒体系在机壳内壁面上,中心 主轴(8 )上及各螺旋(9)之间受到剪断,表面翻新及输送作 用者。21.依申请专利范围第19项或第20项之方法, 其中在机壳 内壁面及在中心主轴(8)之高粘度媒体系受到高相 对速度 者。22.依申请专利范围第19项或第20项之方法,其 中挥发性 成分,宜为分裂的产物、单体、寡聚体或溶剂残留 物系藉 设在处室(12)之除气装置而予以排除者。23.依申请 专利范围第19项或第20项之方法,其中将另外 的气体或液体导入入口(10)或处理室(12)内而引起 化学或 物理变化者。24.依申请专利范围第19项或第20项之 方法,其中化学反 应或混合操作或化合处理系在处理室(12)中实施者 。25.依申请专利范围第19项或第20项之方法,其中 该化学 反应为聚合、聚缩或加聚反应。26.依申请专利范 围第19项或第20项之方法,其中聚缩反 应乃包含生产聚酯、聚醯胺、聚碳酸酯、聚芳基 化合物、 聚胺、聚醯胺一亚醯胺及等之共聚合物。27.依申 请专利范围第19项或第20项之方法,其中聚酯为 聚对苯二甲酸乙酯、聚丁烯对苯二酸酯(PBT)或这 些的共 聚合物。图示简单说明: 图1系依本发明之游星齿轮机构之局部之横剖视图 ; 图2系具有本发明游星齿轮机构在处理室之两端之 复螺旋
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