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发明名称 Verfahren zur Bildung eines Fotolackmusters für eine Halbleitervorrichtung
摘要
申请公布号 DE19503985(A1) 申请公布日期 1995.08.10
申请号 DE19951003985 申请日期 1995.02.07
申请人 HYUNDAI ELECTRONICS INDUSTRIES CO., LTD., ICHON, KYUNGKI, KR 发明人 BAE, SANG MAN, SEOUL/SOUL, KR
分类号 H01L21/3205;G03F7/20;G03F9/00;H01L21/027;H01L21/302;(IPC1-7):G03F7/20;H01L21/312 主分类号 H01L21/3205
代理机构 代理人
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