| 发明名称 |
POSITIVE ELECTRON-BEAM RESIST COMPOSITION AND DEVELOPER FOR POSITIVE ELECTRON-BEAM RESIST. |
| 摘要 |
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| 申请公布号 |
EP0649061(A4) |
申请公布日期 |
1995.08.09 |
| 申请号 |
EP19940914572 |
申请日期 |
1994.04.28 |
| 申请人 |
TORAY INDUSTRIES |
发明人 |
OOSEDO HIROKI;KANETSUKI SHIGEYOSHI;TAMURA KAZUTAKA;ASANO MASAYA;KATAOKA MUTSUO DI |
| 分类号 |
G03F7/022;G03F7/20;G03F7/32;(IPC1-7):G03F7/039 |
主分类号 |
G03F7/022 |
| 代理机构 |
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代理人 |
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| 主权项 |
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| 地址 |
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