发明名称 |
PATTERN EXPOSING SENSITIVE LAYER FORMING METHOD AND SEMICONDUCTOR CIRCUIT USING IT |
摘要 |
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申请公布号 |
JPH07201698(A) |
申请公布日期 |
1995.08.04 |
申请号 |
JP19930334597 |
申请日期 |
1993.12.28 |
申请人 |
HITACHI LTD |
发明人 |
OSHIDA YOSHITADA;OTSUBO TORU;TAKEMOTO KAZUNARI;WATANABE MASAHIRO;NAKAYAMA YASUHIKO;YOSHII MASAKI |
分类号 |
G03F7/20;H01L21/027;H01L21/302;H01L21/3065;(IPC1-7):H01L21/027;H01L21/306 |
主分类号 |
G03F7/20 |
代理机构 |
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代理人 |
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主权项 |
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地址 |
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