发明名称 PATTERN EXPOSING SENSITIVE LAYER FORMING METHOD AND SEMICONDUCTOR CIRCUIT USING IT
摘要
申请公布号 JPH07201698(A) 申请公布日期 1995.08.04
申请号 JP19930334597 申请日期 1993.12.28
申请人 HITACHI LTD 发明人 OSHIDA YOSHITADA;OTSUBO TORU;TAKEMOTO KAZUNARI;WATANABE MASAHIRO;NAKAYAMA YASUHIKO;YOSHII MASAKI
分类号 G03F7/20;H01L21/027;H01L21/302;H01L21/3065;(IPC1-7):H01L21/027;H01L21/306 主分类号 G03F7/20
代理机构 代理人
主权项
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