发明名称 |
Treatment of silicon wafers in order to achieve controlled precipitation profiles therein adapted for manufacturing electronic components |
摘要 |
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申请公布号 |
IL99979(A) |
申请公布日期 |
1995.07.31 |
申请号 |
IL19910099979 |
申请日期 |
1991.11.07 |
申请人 |
MEMC ELECTRONIC MATERIALS S.P.A. |
发明人 |
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分类号 |
C30B33/02;H01L21/02;H01L21/26;H01L21/322;H01L21/324;(IPC1-7):H01L21/322 |
主分类号 |
C30B33/02 |
代理机构 |
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代理人 |
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主权项 |
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地址 |
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