| 发明名称 |
METHOD AND SYSTEM FOR EXPOSURE WITH CHARGED PARTICLE BEAM |
| 摘要 |
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| 申请公布号 |
JPH07191199(A) |
申请公布日期 |
1995.07.28 |
| 申请号 |
JP19930333353 |
申请日期 |
1993.12.27 |
| 申请人 |
FUJITSU LTD |
发明人 |
ARAI SOICHIRO;KAI JUNICHI;YASUDA HIROSHI;FUEKI SHUNSUKE;DAIKYO YOSHIHISA |
| 分类号 |
G21K5/04;G06F17/10;G21C5/00;H01L21/027;(IPC1-7):G21K5/04 |
主分类号 |
G21K5/04 |
| 代理机构 |
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代理人 |
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| 主权项 |
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| 地址 |
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