| 发明名称 |
GAS INLET FOR WAFER PROCESSING CHAMBER |
| 摘要 |
|
| 申请公布号 |
JPH07193015(A) |
申请公布日期 |
1995.07.28 |
| 申请号 |
JP19940172897 |
申请日期 |
1994.07.25 |
| 申请人 |
APPLIED MATERIALS INC |
发明人 |
ROJIYAA ENU ANDAASON;EICHI PIITAA DABURIYUU HEI;DEIBUITSUDO KEI KAARUSON;MAHARINGAMU BUENKATESAN;NOOMA RIREI |
| 分类号 |
H01L21/22;C23C16/44;C23C16/455;H01L21/00;H01L21/205;H01L21/31;(IPC1-7):H01L21/205 |
主分类号 |
H01L21/22 |
| 代理机构 |
|
代理人 |
|
| 主权项 |
|
| 地址 |
|
