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发明名称
METHOD FOR TREATING SURFACE OF SILICON SUBSTRATE AFTER DRY-ETCHING PROCESS
摘要
申请公布号
JPH07193041(A)
申请公布日期
1995.07.28
申请号
JP19930314067
申请日期
1993.11.22
申请人
ERUJII SEMIKON CO LTD
发明人
ZE SUN ZON
分类号
H01L21/302;H01L21/3065;(IPC1-7):H01L21/306
主分类号
H01L21/302
代理机构
代理人
主权项
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