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发明名称 MANUFACTURE OF SEMICONDUCTOR SUBSTRATE
摘要
申请公布号 JPH07193203(A) 申请公布日期 1995.07.28
申请号 JP19930331691 申请日期 1993.12.27
申请人 CANON INC 发明人 OKITA AKIRA
分类号 H01L21/762;H01L21/02;H01L21/18;H01L21/84;H01L27/12;(IPC1-7):H01L27/12 主分类号 H01L21/762
代理机构 代理人
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