Process for the chemical vapor deposition of copper.,申请号EP19910121887-传众专利搜索

发明名称	Process for the chemical vapor deposition of copper.
摘要
申请公布号	EP0493754(B1)	申请公布日期	1995.07.26
申请号	EP19910121887	申请日期	1991.12.20
申请人	AIR PRODUCTS AND CHEMICALS, INC.	发明人	NORMAN, JOHN ANTHONY THOMAS;DYER, PAUL NIGEL
分类号	C07F1/08;C07C13/263;C07C45/00;C07C49/92;C07F1/00;C23C16/06;C23C16/18;C23F1/12;H01L21/285;H01L21/3213;H01L21/768;(IPC1-7):C23C16/18	主分类号	C07F1/08
代理机构		代理人
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