发明名称 电浆加工处理机
摘要 一种电浆处理机包含一圆筒形处理室,贮放欲处理之一半导体晶片;一槽天线,绕于处理室之周边壁外,用以馈送数十MHz之电磁波至该室;及一电磁线圈,设于处理室外,用以由施加30高斯或以下之磁场至处理室而在电浆产生区中产生由电子回旋加速谐振所引起之电浆。槽天线具有长导电性板,具有长度约为电磁波之波长之2分之一,及长槽构制于导电性板中。
申请公布号 TW252262 申请公布日期 1995.07.21
申请号 TW083103763 申请日期 1994.04.26
申请人 东京电子股份有限公司 发明人 今桥一成;深槷孝之
分类号 H05H1/24 主分类号 H05H1/24
代理机构 代理人 林敏生 台北巿南京东路二段一二五号七楼伟成第一大楼
主权项 1.一种电浆处理机,包含:一处理室,具有一贮放区,用以贮放欲处理之物体,及一电浆产生区,与贮放区连续形成;槽天线装置,产生电磁波于处理室之电浆产生区中;及磁场产生装置,用以施加磁场于电浆产生区中,与电磁波合作而产生电浆。2.如申请专利范围第1项所述之电浆处理机,其中,槽天线装置及磁场产生装置分则施加具有满足电子回旋加速谐振条件之频率之电磁波及具有满足电子回旋加速谐振条件之强度之磁场。3.如申请专利范围第2项所述之电浆处理机,其中,电磁波具有频率1MHz至200MHz,及磁场具有强度5至30高斯。4.如申请专利范围第1项所迤之电浆处理机,其中电磁波具有频率1NHz至200MHz。5.如申请专利范围第1项所述之电浆处理机,其中,磁场具有强度5至30高斯。6.一种电浆处理机,包含一圆筒形处理室,贮放欲处理之物体,并具有一周边壁;一槽天线,绕于处理室之周边壁外,用以馈送数十MHz之电磁波至该室;及磁场施加装置,设于处理室外,用以施加30高斯或以下之磁场至处理室,由于电子回旋加速谐振而产生电浆于电浆产生区中。7.如申请专利范围第6项所述之电浆处理机,其中,该槽天线具有一长导电性板,其长度约为电磁波之波长之二分之一,及至少一槽构制于该槽电性板中。8.如申请专利范围第7项所述之电浆处理机,其中,该槽为一长槽,沿导电性板上延伸至接近该导电性板之二端之部份。9.如申请专利范围第8项所述之电浆处理机,其中,该槽具有宽度1至5mm。10.如申请专利范围第6项所述之电浆应理机,其中,该槽天线具有一长导电性板,具有长度约为电磁波之波长之二分之一,及一长槽构制于该导电性板之中央,沿导电性板延伸至接近电导性板之二端之部份,并具有宽度约1至5mm,及该导电性板具有宽度及槽宽度+4cm。10.如申请专利范围第6项所述之电浆处理机,其中,槽天线具有长导电性板,具有长度约为电磁波之波长之二分之一,及多个槽沿导电性板之纵向上构制,具有预定之距离
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