| 主权项 |
1.一种在底材上生成含氧化矽之陶瓷涂膜之方法,此种方法包含:在底材上施用包含结构(SIO2)(RSiO3/2)y(R2SiO)z一种矽烷树脂之一种涂料,其中R分别地包含氢或1至20个碳原子之一种烃、y系在0.05与1之间之一个莫耳分率及x和z系在0与0.95之间之莫耳分率,但以至少20%之R基系氢为条件;以及在包含氧化亚氮之一种大气中、于足够将矽院树脂涂膜转化成一种含-氧化矽之陶瓷涂膜之温度下加热经涂布之底材。2.根据申请专利范围第1项之方法,其中矽烷树脂系选自倍半氧化矽烷树脂或(HSiO3/2)y(H2Sio)z。3.根据申请专利范围第1项之方法,其中经涂布之底材系在100℃与600℃之间范围内之温度下加热1与3小时之间之时间。4.根据申请专利范围第2项之方法,其中矽烷树脂系倍水氧化矽烷树脂,此种树脂系经分馏致使至少75%之聚合之物种具有在1200与100,000之间之数目平均分子量。5.根据申请专利范围第1项之方法,其中矽烷树脂涂料亦色含改质之陶瓷之氧化物先质,此等先质包含一种化合物,此种化合物包合选自包括钛、锆、铝、钽、钒、铌、硼及磷之一种元素,其中化合物包含选由包括烷氧基或醯氧基之至少一个可水解之取代基及化合物系以一种数量存在致使含氧化矽之陶瓷涂膜包含0.1至30重量百分比改质之陶瓷氧化物。6.根据申请专利范围第1项之方法,其中矽烷树脂涂料亦以树脂之重量为基准,以在5与500百万分点铂或铑之数量包含一种铂或铑触媒。7.根据申请专利范围第1项之方法,其中加热之大气亦包含一种惰性之气体。8.根据申请专利范围第1项之方法,其中加热之大气亦包含一种另外之反应之气体。9.根据申请专利范围第1项之方法,其中加热之大气亦包 |
