发明名称 Strahlungsempfindliches Gemisch mit Estern der 1,2-Naphthochinon-2-diazid-sulfonsäure und ein damit hergestelltes strahlungsempfindliches Aufzeichnungsmaterial.
摘要
申请公布号 DE59202487(D1) 申请公布日期 1995.07.20
申请号 DE19925002487 申请日期 1992.03.30
申请人 HOECHST AG, 65929 FRANKFURT, DE 发明人 ZAHN, WOLFGANG, DR., W-6228 ELTVILLE 2, DE;MERREM, HANS-JOACHIM, DR., BASKING RIDGE, NEW JERSEY 07920, DE;ERDMANN, FRITZ, DR., W-6228 ELTVILLE-MARTINSTHAL, DE;SCHMITT, AXEL, DR., W-6229 WALLUF, DE
分类号 G03F7/022;(IPC1-7):G03F7/022 主分类号 G03F7/022
代理机构 代理人
主权项
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