| 发明名称 |
Electron beam exposure method and apparatus therefor. |
| 摘要 |
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| 申请公布号 |
EP0432749(B1) |
申请公布日期 |
1995.07.19 |
| 申请号 |
EP19900123899 |
申请日期 |
1990.12.12 |
| 申请人 |
KABUSHIKI KAISHA TOSHIBA;TOSHIBA MICRO-ELECTRONICS CORPORATION |
发明人 |
SUZUKI, TOSHIYUKI |
| 分类号 |
H01L21/30;H01J37/304;H01J37/317;H01L21/027;(IPC1-7):H01J37/317 |
主分类号 |
H01L21/30 |
| 代理机构 |
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代理人 |
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| 主权项 |
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| 地址 |
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