发明名称 Method of selective reactive ion etching of substrates.
摘要
申请公布号 EP0314599(B1) 申请公布日期 1995.07.05
申请号 EP19880480049 申请日期 1988.09.27
申请人 INTERNATIONAL BUSINESS MACHINES CORPORATION 发明人 DESILETS, BRIAN HENRY;KAPLAN, RICHARD DEAN;SACHDEV, HARBANS SINGH;SACHDEV, KRISHNA GANDHI;SANCHEZ, SUZAN ANN
分类号 H01L21/302;G03F7/09;H01B13/00;H01L21/3065;(IPC1-7):G03F7/09 主分类号 H01L21/302
代理机构 代理人
主权项
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