| 发明名称 |
Verfahren zum Aufbringen von extrem duennen, homogenen Metallschichten auf die Oberflaeche von Halbleiterkristallen |
| 摘要 |
|
| 申请公布号 |
DE1273497(B) |
申请公布日期 |
1968.07.25 |
| 申请号 |
DE1960S067416 |
申请日期 |
1960.03.04 |
| 申请人 |
SIEMENS AKTIENGESELLSCHAFT |
发明人 |
GROSCHWITZ DIPL.-PHYS. DR. EBERHARD;HENNING DIPL.-PHYS. DR. WOLFGANG |
| 分类号 |
C23C14/00;C30B31/04;H01L21/00;H01L21/24 |
主分类号 |
C23C14/00 |
| 代理机构 |
|
代理人 |
|
| 主权项 |
|
| 地址 |
|
