| 发明名称 |
Target for magnetron cathode sputtering system conisting of a cobalt-base alloy |
| 摘要 |
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| 申请公布号 |
GB2285269(A) |
申请公布日期 |
1995.07.05 |
| 申请号 |
GB19940022161 |
申请日期 |
1994.11.03 |
| 申请人 |
* LEYBOLD MATERIALS GMBH |
发明人 |
MARTIN * SCHLOTT;MARTIN * WEIGERT;KWEI * TENG;BRUCE * GEHMAN |
| 分类号 |
C22C19/07;C23C14/14;C23C14/34;(IPC1-7):C23C14/34 |
主分类号 |
C22C19/07 |
| 代理机构 |
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代理人 |
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| 主权项 |
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| 地址 |
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