OCCURRENCE OF HIGH-POWER ELECTRIC CURRENT BEAM BY LOW ENERGY TO BE USED FOR ION IMPLANTATION SYSTEM,申请号JP19930345696-传众专利搜索

发明名称	OCCURRENCE OF HIGH-POWER ELECTRIC CURRENT BEAM BY LOW ENERGY TO BE USED FOR ION IMPLANTATION SYSTEM
摘要
申请公布号	JPH07169436(A)	申请公布日期	1995.07.04
申请号	JP19930345696	申请日期	1993.12.22
申请人	JIINASU INC	发明人	JIYON PII OKOONAA
分类号	C23C14/48;H01J37/317;H01L21/265;H05H5/06;(IPC1-7):H01J37/317	主分类号	C23C14/48
代理机构		代理人
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