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发明名称 Use of organosilicon subbing layer in photoresist method for obtaining fine patterns for microcircuitry
摘要
申请公布号 US3405017(A) 申请公布日期 1968.10.08
申请号 US19650435517 申请日期 1965.02.26
申请人 HUGHES AIRCRAFT COMPANY 发明人 GEE ALLEN
分类号 G03F7/11;H01L21/00;H01L23/29 主分类号 G03F7/11
代理机构 代理人
主权项
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