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发明名称 Verfahren zur Herstellung von Bildmustern in einer Schicht aus einem Siliconharz vom Leitertyp und Ätzlösung für das Verfahren
摘要
申请公布号 DE4005345(C2) 申请公布日期 1995.06.29
申请号 DE19904005345 申请日期 1990.02.20
申请人 MITSUBISHI DENKI K.K., TOKIO/TOKYO, JP 发明人 ADACHI, HIROSHI, AMAGASAKI, HYOGO, JP;ADACHI, ETSUSHI, AMAGASAKI, HYOGO, JP;AIBA, YOSHIKO, AMAGASAKI, HYOGO, JP;HAYASHI, OSAMU, TOKIO/TOKYO, JP
分类号 B05D3/06;B05D7/24;C09K13/06;G03F7/075;G03F7/26;G03F7/40;H01L21/308;(IPC1-7):G03F7/00;B32B27/08;G03F7/09;G03F7/32;H01L23/52 主分类号 B05D3/06
代理机构 代理人
主权项
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