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Beleuchtungseinrichtung für eine Projektions-Mikrolithographie-Belichtungsanlage für die wahlweise Bereitstellung verschiedener Beleuchtungsarten einschließlich konventioneller Beleuchtung mit einstellbarem Kohärenzfaktor (σ), Ringaperturbeleuchtung und symmetrischer schiefer Beleuchtung aus zwei oder vier Richtungen mit einer Lichtquelle (1), mit Mitteln (21-24) zum getrennten Erfassen von Lichtflüssen aus zwei oder vier Raumwinkelbereichen des von der Lichtquelle (1) emittierten Lichtflusses, mit Mitteln (31-34) zum Formen oder Ausblenden der erfaßten Lichtflüsse, mit einer Spiegelanordnung (511-514, 521-524, 531, 533; 6) zur Abbildung der Lichtflüsse auf Sektoren einer Pupillenebene (93), die fouriertransformiert zur Reticleebene für das abzubildende Reticle (10) ist, mit Verstellmitteln (541-544) derart, daß die Bilder der Lichtflüsse in der Pupillenebene (93) radial und azimutal verschoben werden können. <IMAGE>
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